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主營產(chǎn)品： 光學設備、電子計測儀器、科學儀器、機械加工設備、環(huán)境試驗設備、PC周邊用品、作業(yè)工具用品、物流保管用品、化學用品、FA自動化
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產(chǎn)品資料

基板用接近曝光設備
產(chǎn)品型號：MA-6801ML
簡介：

G3~G5基板用接近曝光設備MA-6801ML 基板用接近曝光設備裝載有邊緣傳感器和間隙傳感器的非接觸式近接曝光裝置。*適合觸摸屏及有機EL等的量產(chǎn)。

基板用接近曝光設備  的詳細介紹

G3~G5基板用接近曝光設備MA-6801ML

深圳市京都玉崎電子有限公司
項目擔當：陳永康
電話：13717018123

Q  Q：2853007784

網(wǎng)址：0755bjgs.com

基板用接近曝光設備


G3～G5基板用直立型近接曝光裝置

通過掩膜與基板的垂直放置,來減少翹曲的直立型近接曝光機。對應水平搬送型前后處理裝置的聯(lián)機。

主要特長

         基板用接近曝光設備
  • 直立配置掩膜臺/基板臺。不需補正由掩膜/掩膜臺/基板臺的自身重量而造成的彎曲變形,構造簡單，安定性高。
  • 采用新型光學系統(tǒng),使影響圖形轉印精度的傾斜角降低至過去的一半以下(與本公司裝置相比),可實現(xiàn)更高精度的圖形轉印。
  • 完全分離本體與光源部。光源的熱量傳遞不到本體,改善了本體部的熱量分布水準。
  • 為了防止因掩膜及玻璃基板的溫度差造成的伸縮變形,可選擇基板臺溫度控制系統(tǒng)及掩膜冷卻系統(tǒng)。(選購項)
  • *大基板尺寸為1,200mm×1,400mm。通過獨自的光學系統(tǒng)實現(xiàn)了均勻的一次性曝光。
  • 能夠裝載存放5張掩膜的掩膜存放庫
主要規(guī)格基板用接近曝光設備
  MA-6701ML MA-6801ML MA-6131ML
基板尺寸 550 x 650mm 650 x 750mm 1100 x 1300mm
掩膜尺寸 620 x 720 x t8.0mm 700 x 800 x t8.0mm  1200 x 1400 x t4.8mm
對位 非接觸預對位～自動對位
間隙 擁有傳感性能
光源 超高壓水銀燈 ：8kW 超高壓水銀燈 ：8kW 超高壓水銀燈 ：18kW
外觀尺寸及重量 本體尺寸 W3500 x D2720 x H2700 mm W4150 x D3200 x H2900 mm W11300 x D7060 x H3350 mm
本體重量 3500kg 3800kg 12700kg
光源重量 800kg 1150kg 4200kg
選購項 掩膜冷卻、基板臺溫度調節(jié)、溫控機房、特殊對位照明
用途 觸摸屏、彩色濾光片、有機EL、C－STN、電子紙等

基板用接近曝光設備基板尺寸和水銀燈瓦數(shù)及特殊規(guī)格可商洽